中心动态
Industry Dynamics

上海硅知识产权交易中心有限公司(SSIPEX)是工业和信息化部、上海市为促进我国集成电路设计业成长,提升电子信息产业知识产权水平,培育物联网等新兴产业发展而建立的行业性公共服务机构之一。

Shanghai Silicon Intellectual Property Exchange Co., Ltd. (SSIPEX)was founded by the Ministry of Industry and Information, Shanghai Municipal Commission of Economy and Informatization. It is one of the industrial public service organizations to improve China's IC design industry, to boost intellectual property level of electronic information industry and to foster new industry such as internet of things

上海市新型显示领域关键技术专利态势研究(2012)

Shanghai new display Patent Trend Research(2012)

        本报告是《上海市信息技术领域专利态势研究(2012)》分报告之三。
        本报告由上海硅知识产权交易中心有限公司(以下简称SSIPEX)对我国新型显示领域关键技术的专利现状,尤其是上海市新型显示领域关键技术的专利发展状况做出的分析报告。SSIPEX通过调研、查阅产业资料与专利检索、分析相结合的研究方式,根据我国新型显示领域关键技术的专利发展趋势,结合上海市在该领域专利申请的实际情况,对我国、上海市新型显示关键技术的专利状况进行客观的评估,为政府、行业协会、科研院所以及相关技术领域的企业提供第三方的专利决策参考。
        本报告共分三个部分。
        第一部分主要对我国新型显示领域相关背景、技术分类分别进行介绍,并对分析报告数据的来源、检索年限范围、专利数据分析目的、技术分类等方面进行说明。截止2011年12月31日,全国新型显示领域公开(公告)的专利总数为24607件,其中发明专利18631件,实用新型专利5976件。
        第二部分是从宏观的角度,较全面地反映我国新型显示领域关键技术及其产业、市场在我国发展的基本态势,我们主要从时间序列、区域分布、申请人分布、主要技术领域分布等角度对所检索到的专利数据进行统计分析,细分出近年专利技术的研究热点,发展趋势,归纳分析国外在华申请的趋势和重点技术,并对全国新型显示领域关键技术专利整体就行总结分析。
        第三部分,探讨上海市新型显示领域关键技术专利的宏观态势,针对上海的区域发展特点和特殊需求,从年度分布、区域分布、申请人分布、技术分布等几个方面进行统计分析,归纳出近年上海在新型显示领域的研发热点,专利技术发展趋势情况,并对上海市新型显示领域关键技术专利整体就行总结分析。

        Shanghai new display Patent Trend Research (2012) is one of the "studies of Shanghai information technology patent (2012)".
        This report reflects the current situation of patent technology in the field of new display in China, especially analyzes patent development of the new display in Shanghai.
        This report includes three parts.
        The first part introduces the background and technical classification of new display in China, and the source of data, retrieval time range, patent data analysis purpose, classification and other aspects of technology are described.
        The second part reflects Chinese new display industry, key technology and its market under recent situation. This part statistically analyzes annual application trends, regional distribution, the patent applicant distribution, main technical field distribution.
        The third part studies the macro trend for Shanghai patent technology new display field.Put forward some suggestions for the future development of the new display in Shanghai.

        如需要完整报告,请联系我们:
        联系人:秦静,电话:021-61154610-8856,邮箱:jing.qin@ssipex.com。

 

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