集成电路布图设计权是一种经登记产生的权利。我国《集成电路布图保护条例》第八条明确规定：“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护”。同时第十七条规定“布图设计自其在世界上任何地方首次商业利用之日起两年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权部门不再予以登记。”我国在2001年颁布实施了《集成电路布图保护条例》。我国从保护布图设计的实际出发，根据华盛顿条约和TRIPS协议规定，确定了两项布图设计专有权，即复制权和商业利用权。

对集成电路布图设计权的保护，应当考虑创作人和投资者的利益，也需要考虑整个社会的受益，以实现权利人利益和整个社会利益的平衡。华盛顿条约和各国法律对集成电路布图设计专有权作了多方面的限制。除了时间和保护范围限制外，还规定了合理使用等。我国对布图设计专有权进行了如下限制。
(1) 合理使用。条例第二十三条规定，下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬：“(一) 为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等非商业目的而复制受保护的布图设计；(二) 在对受保护的布图设计进行分析、研究的基础上，创作出具有独创性的布图设计；(三) 对自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用。”
(2) 权利用尽。条例第二十四条规定：“受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品，由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，并不向其支付报酬。”
(3) 善意使用。条例第二十五条规定：“在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道、也没有合理的理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。”

集成电路布图设计登记公告后，公众需要通过申请查阅才能获取该登记的详细信息。近年来，中国集成电路布图设计保护纠纷已经逐渐有一些案例，通过这些案例可以看出集成电路布图设计保护是一个很好的维权工具。根据《集成电路布图设计保护条例》第七条，布图设计权利人享有下列专有权：
(一) 对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；
(二) 将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

根据已有的集成电路布图设计保护条例和实施细则，以及在先的典型集成电路布图设计判例，可以看出：
（1）集成电路布图设计，一定要有自己原创的独创点，以防止被抄袭，同时也有利于维权。
（2）集成电路布图设计保护的对象是申请布图设计登记时递交的材料所包含的内容，如包含布图设计对应版图层次中的独创点以及受保护的集成电路样品。值得注意的地方，布图设计登记时，布图设计登记申请的芯片版图层次和是否提交集成电路产品没有定性限制，只有申请时递交了相应的版图层次才拥有对应层次的布图设计保护权。建议进行布图设计保护申请时，要明确保护的对象并递交完整的申请材料，以保障集成电路布图设计的知识产权保护范围。